膜厚儀電渦流測量原理

膜厚儀電渦流測量原理：
    高頻交流信號在測頭線(xiàn)圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng)，測頭靠近導體時(shí)，就在其中形成渦流。測頭離導電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋作用量表征了測頭與導電基體之間距離的大小，也就是導電基體上非導電覆層厚度的大小。由于這類(lèi)測頭專(zhuān)門(mén)測量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱(chēng)之為非磁性測頭。非磁性測頭采用高頻材料做線(xiàn)圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應原理比較，主要區別是測頭不同，信號的頻率不同，信號的大小、標度關(guān)系不同。與磁感應測厚儀一樣，渦流測厚儀也達到了分辨率0.1um，允許誤差1%，量程10mm的高水平。 　　
    采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車(chē)輛、家電、鋁合金門(mén)窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽(yáng)極氧化膜。覆層材料有一定的導電性，通過(guò)校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類(lèi)任務(wù)還是采用磁性原理測量較為合適。